化學氣相沉積爐
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產品名稱: 化學氣相沉積爐
產品型號: HTT-CVD
產品展商: 其它品牌
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簡單介紹
CVD化學氣相沉積爐由開啟式單（雙）溫區管式爐、高真空分子泵系統、壓強控制儀及多通道高精度數字質量流量控制系統組成。CVD化學氣相沉積爐可實現真空達0.001Pa混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。
化學氣相沉積爐
的詳細介紹
主要功能和特點：
1、高真空系統由雙級旋片真空泵和分子泵組成，*高真空可達0.0001Pa；
2、可配合壓強控制儀控制氣體壓力實現負壓的精準控制；
3、數字質量流量控制系統是由多路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統的**性和連續均勻性。
4、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；管路采用世界*Swagelok卡套連接，不漏氣；
5、超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進氣，使用**可靠。
主要用途：
高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD/CVI實驗，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結等場所。
主要技術參數：
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SKGL-1200
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控溫方式
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采用人工智能調節技術，具有PID調節、自整定功能，并可編制30段升降溫程序。
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加熱元件
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0Cr27Al7Mo2
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工作電源
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AC220V 50HZ/60HZ
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額定功率
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4KW
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爐管尺寸
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Φ60/Φ80/Φ100*1000mm
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工作溫度
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≤1150℃
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*高溫度
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1200℃
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恒溫精度
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±1℃
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加熱區長度
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440mm或220mm/220mm
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升溫速度
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≤20℃/min
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密封方式
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不銹鋼快速法蘭擠壓密封
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ZK-F
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真空范圍
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0.1-0.001Pa
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極限真空
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4.0*10^-4Pa
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產品配置
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雙級旋片真空泵+分子泵
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測量方式
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復合真空計
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真空規管
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電阻規+電離規
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冷卻方式
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風冷
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工作電源
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AC220V 50/60HZ
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抽速
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110L/S
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ZDFC-Ⅲ
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測量范圍
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5～1*10^-5 Pa
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穩壓(真空)范圍
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1～5*10^-3Pa
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壓力(真空)穩定精度）
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±3%
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控制范圍
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2.5*10^3～1*10^-4 Pa
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控制精度
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± 1%
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HQZ-Ⅲ
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控制方式
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D07-7K質量流量計,D08流量顯示儀
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流量規格
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0－500SCCM /0－1SLM,（可根據客戶需要配置）
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線性
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±1%F.S
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準確度
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±1%F.S
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重復精度
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±0.2%F.S.
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響應時間
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≤2sec
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耐壓
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3MPa
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氣路通道
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3通道（根據客戶需求）
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針閥
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316不銹鋼
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管道
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Φ6mm不銹鋼管
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接口
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SwagelokΦ6mm
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